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在半導體制造業中，晶圓作為芯片的基礎材料，其表面質量直接決定了最終產品的性能和可靠性。隨著技術的不斷進步，晶圓表面缺陷檢測系統已成為確保產品質量的關鍵環節。其中，切割槽的深度與寬度檢測是評估晶圓加工精度和完整性的一項重要指標。切割槽是在晶圓...
掩模對準光刻系統與我們的生活息息相關，我們用的手機，電腦等各種各樣的電子產品，里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻系統是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。光刻系統的技術原理：掩模對準光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機...
在過去的40年，我們發展成為隔振臺的供應商，并在此領域積累了豐富的經驗。與此同時，測量技術有了很大的進步，一些靈敏的設備會受被動式隔振臺中低頻共振頻率的干擾，只有主動式隔振臺能消除此類干擾。因此，我們在被動式隔振臺產品之外，補充了由瑞士TableStableLtd.開發的先進主動式隔振臺。隔振臺的描述：調整腳，焊接鋼框架。1、薄膜空氣彈簧BiAi產處于框架和需要隔振的平臺之間（垂直固有頻率2.3Hz）2、機械氣動定位控制（精度土1/lOOmm或土1/lOmm）特點：1、固有振...
Thetametrisis膜厚測量儀用于氧化釔（Y?O?）涂層厚度測量。它可快速準確地繪制大型氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y?O?層厚度。下面我們來看看用Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）涂層厚度的具體情況。Thetametrisis膜厚測量儀測量氧化釔（Y?O?）的案例分析：氧化釔（Y?O?）是一種非常有前景抗等離子涂層材料，且在集成電路中特征尺寸的持續減小應用在化學機械拋光后的高度平整工藝用作化學機械平面化（CMP）的磨料，具有獷泛的應用范圍。氧...
硅片厚度測量儀是采用紅外干涉技術的一款測量儀器。它能夠精確測量硅片厚度和測量TTV總厚度變化，也能實時測量超薄晶圓厚度（掩膜過程中的晶圓），硅片厚度測試儀非常適合晶圓的研磨、蝕刻、沉淀等厚度測量應用。硅片厚度測量儀具有突出優勢，諸多材料例如Si、GaAs、InP、SiC、玻璃、石英以及其他聚合物在紅外光束下都是透明的，非常容易測量，標準的測量空間分辨率可達50微米，更小的測量點也可以做到。目前，儀器可廣泛用于MEMS、晶圓、電子器件、膜厚、激光打標雕刻等工序或器件的測量。該硅...
電容式位移傳感器基于平板電容原理。電容的兩極分別是傳感器和與之相對的被測物體。如果有穩定交流電通過傳感器，輸出交流電的電壓會與傳感器到被測物體之間的距離成正比關系，從而可以通過測量電壓的變化得到距離信息。電容位移傳感器是一種非接觸電容式原理的精密測量儀器，具有一般非接觸式儀器所共有的無磨擦、無損磨特點外，還具有信噪比大，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優點。實際應用當中電容式傳感器可以實現近乎的線性測量。但是，電容傳感器要求探...
